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纽约时装学院摄影专业介绍
纽约时装学院摄影专业的学生专注于模拟和数字技术相结合的学习，发展批判性思考的能力和视觉表达的能力。学校致力于培养能够以视觉表达的方式解决编辑出版、广告、摄影报道和美术行业里所遇到的问题的摄影师。
纽约时装学院介绍
纽约时装学院（Fashion Institute of Technology，简称FIT）是国际著名的服装与艺术设计院校，成立于1944年，是一所公立学校， 但是长年来与私有企业保持着良好的合作关系。当时的学生只有100人左右，开设的相关学科只有科学管理和设计。FIT的创始人莫蒂默（Mortimer C. Ritter）希望学院成为"一座像MIT麻省理工学院一样的设计学院"。经过不懈的努力，FIT已经成为具有丰富的历史，在纽约城市经济的冲击下仍然持久屹立的著名学府。
1970年，FIT被正式授权颁发文理学士、硕士学位证书。在经历了数十年的成长后，FIT已经拥有毕业生11000人，开设专业涉及30多个不同领域。专业内容紧贴时尚脉搏，如时装设计、广告设计、电脑动画及互动媒体、织物设计、室内设计、时装摄影、时尚产品管理等。
本科生申请要求
语言成绩
雅思：6.5分；托福80分
申请材料
申请表、官方英文成绩单、托福或雅思成绩、作品集、短文(750字以内)
申请截止日期
SUNY：春季10月1日 秋季1月1日
FIT：春季11月1日 秋季2月1日
学校只有收到全部需要的申请材料后才会决定申请。
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